Jawaban:

Deposition atau pengendapan, pada proses mikrosistem adalah proses melapisi permukaan wafer dengan zat-zat tertentu. Deposition digunakan untuk berbagai macam tujuan seperti melindungi wafer, menjadi bahan untuk mask, membuat penghantar listrik, dan meletakkan komponen tertentu yang mungkin akan digunakan dalam komponen mikrosistem.

Deposition dapat dibagi menjadi tiga yaitu:

Kimia/Chemical Vapor Deposition (CVD): panas, plasma, dan laser

Fisika/Phisycal Vapor Deposition (PVD): penguapan, sputtering, pelapisan ion

Cairan: pelapisan dengan arus listrik dan tanpa arus listrik (kualitas rendah)

Endapan yang timbul setelah proses ini, kemudian diukur dengan alat ellipsometer.

Ikon rintisan

Artikel bertopik teknologi ini adalah sebuah rintisan. Anda dapat membantu Wikipedia dengan mengembangkannya.

Penjelasan:

semoga membantu Anda